熔融石英中的激光损伤，特别是紫外线激光损伤，仍然是限制高功率激光系统发展的关键问题。熔融石英的传统加工方法经历研磨和化学机械抛光(CMP)的过程。该方法耗时费力以获得超光滑的表面，并且容易引起表面和亚表面缺陷，从而大大降低了熔融二氧化硅的表面损伤阈值。

最近，来自中国科学院上海光学精密机械研究所的研究小组将化学蚀刻和CO 2激光抛光相结合，用于处理熔融石英。化学蚀刻被用于打开研磨的熔融二氧化硅的表面下缺陷。随后，施加CO 2激光抛光以减小表面粗糙度。

这种组合工艺不仅可以有效地获得具有低表面粗糙度的超光滑表面，而且可以提高熔融石英的抗损伤性。这项工作发表在《光学快报》上。

通过损伤形态和缺陷分析，表明该组合过程避免了引入表面和亚表面缺陷，包括破坏性缺陷，化学结构缺陷和光敏性精神杂质元素，并获得了具有较低表面缺陷密度的熔融二氧化硅，从而获得了更好的抗破坏性。